1500單溫區管式爐采用硅碳棒為加熱元件，額定溫度1500℃，溫度可達1450℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶，可編程30段程序控溫，控溫精度±1℃。設備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭，雙環密封技術，可應用于CVD實驗、熒光粉制備、真空或氣氛下材料燒結、基片鍍膜等實驗環境。

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